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国产22纳米光刻机治不了咱们的“芯”病!_博发娱乐app

发布时间:2021-02-01    来源:博发61311

博发-11月29日,中国科学院开发的“超强判别光刻装备”通过了竣工检查。 据消息记载,谣言—— 《国产光刻机最出色突破,国产芯片白菜简化在即》 《突破荷兰技术封锁,急弯转弯》 《得意了我的国,新式光刻机将超越“芯片耕”》 ……笔者正好向中国科学院光电所答辩不能进行这次竣工检查。 写了报道,算术很清楚,不能说一些没完没了的废话。 中国科学院开发的这个光刻机不能(正如一些网络媒体所说)用于光刻CPU。

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其意义是,用廉价的光源构筑高分辨率,作为生产场景使用,很经济。 再解释一遍:光刻机不仅仅是为了生产芯片。

如果想在一张平面(硅片或任何材料)上打磨麻烦的图案,可以用光刻——拍摄,把图像转印到感光薄膜上,蚀刻一部分扔掉。 半个多世纪前,美国人根据这个原理使用“印刷”电路制作了大规模的集成电路——芯片。 为了节约能源和省硅材料,芯片越小,光刻机就越极端。

如果线一定程度粗,投影就会模糊。 为了投影到明了,线的行程不能超过光的波长的一半。 用于中心步进器的波长13.5纳米的极紫外光源,喜欢刻10纳米以下的线。

但是,平稳大功率的极紫外光源很难建设,一个是3000万人民币。 由于工作环境严峻,拒绝对应的光学和机械部件是极端的设备,荷兰ASML公司独占了极紫外光雕刻机,构建了“一台买一亿美元”的神话。 十几年前,国际上开始对sp(surfaceplasma )光刻法感兴趣。

中国科学院光电所从2003年开始研究,是一支缓慢而有成果的团队。 SP是光电站的科学家杨勇向笔者解释的:熟悉金属片和非金属片,界面上有一些乱七八糟的电子。 光投影到金属上时,这些电子有规律地波动,产生波长几十纳米的电磁波,可以用于光刻。

但是,因为这个电磁波很弱,所以只有光刻胶靠近了,才会被刻。 加工精度不能和ASML的光刻机相比。 刻有几十纳米级芯片的不能使用SP光刻机,至少现在的技术做不到。 竣工验收会上也有记者问我,这个光刻设备能刻芯片,超过海外垄断吗? 光电站的专家听说,作为芯片使用必须攻克一系列的技术课题,还很远。

总之,中科院的22纳米分辨率光刻机与ASML独占的光刻机不同,前者说是突然弯曲的,中国好像出现了短跑运动员打破螺栓。 各媒体第一时间附加的信息对于我看到的东西是理所当然的。 然后网络媒体在树枝上加了叶子,做了很奇怪的事。 有些播音员为了更有眼力地赚钱,最喜欢生产“自嗨文”和“吓尿体”。

听到国产科技成果首先被吹到大里,驴被马喷,马被骆驼喷,容易买骆驼的价格。 这个“科技报道”是虚荣心十足的假消息。 专家皱着眉头,抛弃了大吉。

不要害怕很多科学家会成为新闻。【博发】。

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